井上壮一

専門分野

リソグラフィ技術、マスク技術、光学検査計測技術

これまでの取り組みと将来への想い

入社してすぐ、X線リソグラフィのマスク検査技術の可能性を探る基礎研究としてX線顕微鏡開発に従事しました。その後パターニング性能を最適化し、安定生産を実現するリソグラフィモデリング・設計技術を確立しました。また、世界に先駆けてパターン忠実性を向上させるモデルベースOPC (Optical Proximity Correction) 技術の実用化を主導しました。これらの技術は日々進化し続け、現在も継続的に使われています。近年ではEUVL (Extreme Ultraviolet Lithography)、NIL (Nanoimprint Lithography)、NDM (Nano-Defect Management)の技術開発に取り組みました。今後は会社人生の原点である計測技術に回帰し、先端半導体デバイスの3D微細構造の高解像観察技術を開発したいと考えています。