NEDO公募「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業/先端半導体製造技術の開発」における「Beyond 2nm及び短TAT半導体製造に向けた技術開発」の採択（再委託）について

キオクシア株式会社は、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）が公募した「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業/先端半導体製造技術の開発」において、技術研究組合最先端半導体技術センター（LSTC）が提案した「Beyond 2nm及び短TAT半導体製造に向けた技術開発」が採択されたことを受け、本技術開発に再委託先として参画することをお知らせします。

ポスト5G情報通信システムにおいては、Beyond 2nm世代半導体やメモリなど様々な半導体の性能向上が期待されています。そのためには、デバイスプロセス要素技術開発とともに、革新的な短TAT・クリーンプロセス装置技術の開発が求められています。

当社は本技術開発の実施項目の１つである「Beyond 2nm半導体の応用範囲拡大を可能とする短TAT・クリーンプロセス装置技術開発」の一部を再委託先として担う予定です。

詳細につきましては、NEDO、LSTCの各ウェブサイトをご覧ください。