第49回 環境賞「優良賞」受賞について

当社は、キヤノン株式会社、大日本印刷株式会社、キオクシア株式会社による「NIL（ナノインプリントリソグラフィ）による超微細半導体の省エネルギー加工技術」が、第49回 環境賞（国立研究開発法人国立環境研究所・日刊工業新聞社主催、環境省後援）において「優良賞」を受賞したことをお知らせします。

NILは回路パターンを刻み込んだ型をウエハーに押し当てることで回路パターンを転写します。そのため、既存の露光技術と比較し、NILは半導体製造時の消費電力を削減でき、今後のIoT社会の急速な拡大を支える技術として評価されました。

今後も当社は、半導体製造における省エネルギー技術の開発や生産性向上の取り組みを積極的に推進してまいります。