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横浜テクノロジーキャンパス技術開発新棟(仮称)の建設を開始
- 2021年11月30日
- キオクシア株式会社
キオクシア株式会社は、本日、横浜テクノロジーキャンパス(横浜市栄区)において、技術開発新棟(仮称)の起工式を行いました。技術開発新棟建設により拡張された横浜テクノロジーキャンパスでは、製品評価機能の拡充や将来の人員増強に対応することで、フラッシュメモリ、SSDの研究・技術開発を強化します。竣工は2023年夏を予定しています。
- 横浜テクノロジーキャンパス技術開発新棟と新子安研究拠点の新設について(2021年5月13日発表)
https://www.kioxia.com/ja-jp/about/news/2021/20210513-1.html